山东有研半导体、有研硅取得超高电阻率硅衬底相关专利,该方法可制备超高电阻率低氧硅衬底
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2026-08-29 09:29:01
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8月29日消息,国家知识产权局信息显示,山东有研半导体材料有限公司、有研半导体硅材料股份公司申请一项名为“直拉法制备超高电阻率硅衬底的方法”的专利,授权公告号CN116240621B,授权公告日为2026年8月28日。申请公布号为CN116240621A,申请号为CN202211727056.8,申请公布日期为2026年8月28日,申请日期为2022年12月27日,发明人张健华、张欢、连庆伟、宁永铎、方峰、徐继平、钟耕杭、朱晓彤、李钧宏、颜俊尧,专利代理机构北京北新智诚知识产权代理有限公司,专利代理师刘秀青,分类号C30B15/00、C30B15/20、C30B29/06、C30B33/02、C23C16/40、C23C16/453。

专利摘要显示,本发明公开了一种直拉法制备超高电阻率硅衬底的方法,该方法的工艺流程为:直拉法制备硅单晶→单晶棒滚磨→多线切割→边缘倒角→双面研磨→化学腐蚀→热处理→化学机械抛光;其中,在所述直拉法制备硅单晶的工序中,单晶生长过程中使用水平超导磁场,磁场强度为1000‑5000高斯,同时,采用特定的晶体转速和坩埚转速相配合,晶体转速为1‑12rpm,坩埚转速为0.1‑2rpm;在所述热处理工序为POLY+LTO薄膜生长;或者为高温退火。该方法适用于制备直径在8英寸及以上、电阻率在3000Ω·cm以上、氧含量在5ppma以下的P型硅衬底。所制备的单晶氧含量低于5ppma,退火后电阻率能够达到3000Ω·cm以上,并且氧含量均匀性小于10%,电阻率均匀性小于5%。

天眼查数据显示,山东有研半导体材料有限公司成立日期2018年8月23日,法定代表人张果虎,所属行业为非金属矿物制品业,企业规模为中型,注册资本200328.1126万人民币,实缴资本200328.1126万人民币,注册地址为山东省德州市天衢新区袁桥镇尚德八路3998号。山东有研半导体材料有限公司共对外投资了1家企业,参与招投标项目384次,财产线索方面有商标信息0条,专利信息96条,拥有行政许可27个。

山东有研半导体材料有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1一种评价直拉单晶硅放肩棱线开棱程度的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202512019211.02025-12-30CN122015709A2026-05-12宁永铎、谷锡猛、颜俊尧
2一种用于大直径硅片的高纯碳化硅喷砂处理工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202512004102.12025-12-29CN121798517A2026-04-07李广振、郑宇、安瑞阳、马振
3一种用于硅晶圆双面研磨机自动上下料的装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511926268.22025-12-19CN121608062A2026-03-06刘鹏亮、郑宇、安瑞阳、李广振
4一种用于大直径直拉高阻单晶的电阻率控制方法发明专利公布CN202511906887.52025-12-17CN121653836A2026-03-13魏广禹、李超、李钊、鲁强、李永博、崔维学、张果虎
5一种70μm直径金刚线切割8英寸硅棒的加工工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202511873126.42025-12-12CN121733715A2026-03-27李攀、苏冰、周献朋、张果虎、王海涛、郑宇、王立军
6一种用于单晶棒投料的电阻率测试适配方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511863671.52025-12-11CN121917844A2026-04-24颜俊尧、李钧宏、徐继平
7一种减少硅片背面损伤的有蜡贴片工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202511836745.62025-12-08CN121925065A2026-04-24陈克强、赵江伟、董斐、韩佩鑫、田凤阁、崔学军、张果虎、靳慧杰
8一种高品质SOI用硅衬底抛光片的加工方法发明专利授权CN202510974564.32025-07-15CN120824193B2026-05-29王新、林霖、田凤阁、宁永铎、钟耕杭、张果虎、刘斌
9一种<111>晶向单晶硅等径阶段宽面稳定性的控制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510599637.52025-05-09CN120330873A2025-07-18张欢、张鑫龙、徐相峰、张果虎
10一种薄片晶圆自动化剥离装置实用新型授权CN202520599238.42025-04-01CN223993875U2026-03-13段文瑶、赵江伟、马晓晨
11一种硅电极MC自动加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510216538.42025-02-26CN120043482A2025-05-27胡金海、朱秦发、张泽龙、杨卫国、张果虎
12一种大直径圆环形硅片测试封装用片盒实用新型授权CN202520186117.72025-02-06CN223736591U2025-12-30王雅慧、魏士迪、皇志威
13一种APCVD沉积过程颗粒物控制系统及其方法发明专利专利申请权、专利权的转移、授权、实质审查的生效、公布CN202411903052.X2024-12-23CN119710628B2025-09-02万关良、张麒
14一种硅单晶位错滑移线的检测方法发明专利授权CN202411891799.82024-12-20CN119780115B2025-12-12刘莉、张宏浩、江国兴、褚天宇、朱秦发、姜舰
15一种用于套圆加工的环抱型单晶硅棒吊装装置实用新型授权CN202423131559.62024-12-18CN223659613U2025-12-12皇志威、江国兴、褚天宇、蔡明
16一种多晶铸锭开方机硅料装卸装置实用新型授权CN202423116426.12024-12-17CN223617981U2025-12-02杨寿亮、赵延立、王开平
17一种用于硅渣浆过滤的三级洁净分离自平衡水箱结构发明专利实质审查的生效、公布CN202411800101.72024-12-09CN119607707A2025-03-14赵延立、朱秦发、胡金海、张传振
18一种多设备同时滤除硅渣的组合过滤系统及处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411800035.32024-12-09CN119633490A2025-03-18赵延立、朱秦发、张泽龙
19一种改善外延后边缘轮廓各向异形问题的衬底加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411790240.62024-12-06CN119710915A2025-03-28宁永铎、颜俊尧、纪新鹏、李钧宏
20一种用于MC第四旋转轴加工石英环的夹具装置实用新型授权CN202423010168.92024-12-06CN223656768U2025-12-12张泽龙、朱秦发、胡金海、杨卫国
21一种用于大直径直拉硅单晶的降温装置和方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411739449.X2024-11-29CN119615348A2025-03-14李超、魏广禹、李钊、鲁强、李永博
22一种用于硅单晶棒截断的浮动支撑装置实用新型授权CN202422935227.72024-11-29CN223657336U2025-12-12江国兴、赵振晖、刘莉
23一种用于单晶硅料粘接的单晶夹持起重装置实用新型授权CN202422903473.42024-11-27CN223659638U2025-12-12褚天宇、江国兴、皇志威、蔡明、王雅慧
24一种基于机器视觉的直拉单晶生长界面中轴轨迹监测系统与方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411657671.52024-11-19CN119593057A2025-03-11颜俊尧、宁永铎、谷锡猛
25一种抛光片背面边缘二氧化硅快速腐蚀的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411612013.42024-11-12CN120015620A2025-05-16杨先瑞、冯瑞琪、何宇、陈鲁锋、韩萍
26一种重掺红磷硅单晶的无位错收尾工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202411519282.62024-10-29CN119465376A2025-02-18王凯磊、李英涛、张宇、王万华、皮小争、方峰、崔彬
27一种有效去除12英寸硅衬底体内铜沾污的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411452746.62024-10-17CN119381245A2025-01-28王海涛、钟耕杭、李俊峰、张清洋、李磊、王明霞
28一种用于处理硅衬底激光打标损伤的方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202410516328.22024-04-25CN118380308A2024-07-23韩萍、何宇、郑捷、刘斌、钟耕杭、靳慧洁、蔡丽艳、王瑞英
29一种电容法测试超低阻红磷硅片电阻率的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410494803.02024-04-23CN118425615A2024-08-02韩萍、孙韫哲、靳慧洁、蔡丽艳、刘斌、王瑞英
30一种用于硅片贴片机下压气囊的充气密封结构实用新型授权CN202420723812.82024-04-09CN222146150U2024-12-10刘义、韩萍、李千振、姜振虎、赵勇、张西标、蔡丽艳、赵江伟、陈克强
31一种半导体硅抛光片的去蜡清洗工艺发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202410032589.72024-01-08CN117862112B2025-06-20赵江伟、王新、韩佩鑫、田凤阁、陈克强、崔学军、黄书峰、王冠通
32一种用于硅单晶棒连续生产的直拉硅单晶炉副炉室及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311840508.82023-12-28CN117758352A2024-03-26宁永铎、李钧宏、颜俊尧、方峰
33一种防止P型直拉硅单晶头部电阻率虚高与反型的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311733108.72023-12-14CN117758356A2024-03-26崔维学、鲁强、李钊、李永博、魏广禹
34一种用于半导体晶棒切割的辅助校准装置实用新型授权CN202323231767.92023-11-28CN221223607U2024-06-25江国兴、赵振晖、张宏浩、杨寿亮、刘莉、朱秦发、姜舰
35一种用于圆环形单晶硅棒加工的固定装置实用新型授权CN202323116133.92023-11-17CN221212338U2024-06-25皇志威、褚天宇、蔡明、江国兴
36一种用于消除半导体抛光片表面色斑的装置与方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311498465.X2023-11-13CN117238752B2024-02-13颜俊尧、宁永铎、张健华、李钧宏、徐继平、边永智
37一种重掺硅单晶电阻率精准控制的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311485633.12023-11-08CN117568929A2024-02-20王凯磊、李英涛、王万华、皮小争、方峰、崔彬
38一种<111>晶向硅单晶小平面的检测方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311312019.52023-10-11CN117517367A2024-02-06王学锋、张宏浩、朱晓彤、杨寿亮、刘莉、朱秦发
39一种大尺寸晶圆边缘的加工工艺发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202310967112.32023-08-02CN117116740A2023-11-24王新、郑宇、何丙才、刘鹏亮、张亮、李广振、安瑞阳、姜伟
40一种用于大型晶圆研磨机改善晶圆形貌的研磨工艺发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310967122.72023-08-02CN116852183B2024-04-02何丙才、郑宇、韩萍、李广振、刘鹏亮、张亮、姜伟、田凤阁、陈克强、韩佩鑫
41一种适用于研磨晶圆的研磨液供液系统实用新型授权CN202321940879.92023-07-21CN220179060U2023-12-15郑宇、何丙才、刘鹏亮、李广振、张亮、姜伟、杨先瑞、陈鲁峰
42一种应用于12英寸硅片洗盒机清洗6英寸花篮的专用装置实用新型授权CN202321932299.52023-07-21CN220479658U2024-02-13赵晶、李千振、蒙德强、刘义、孙超
43一种重掺砷低电阻率硅单晶微缺陷的检测方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310616131.12023-05-29CN116642914B2024-02-13王学锋、张宏浩、朱晓彤、杨寿亮、赵振辉、朱秦发
44直拉法制备超高电阻率硅衬底的方法发明专利授权CN202211727056.82022-12-27CN116240621B2026-08-28张健华、张欢、连庆伟、宁永铎、方峰、徐继平、钟耕杭、朱晓彤、李钧宏、颜俊尧
45一种改善硅单晶直拉炉加热器寿命的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202211601075.62022-12-14CN116103748A2023-05-12颜俊尧、李英涛、边永智、宁永铎、方峰、徐继平
46一种半导体单晶硅片金刚线切割的工艺方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202211670509.82022-12-14CN116001120B2024-08-13褚天宇、蔡明、朱秦发、王学峰、李亚光、皇志威
47一种提高大直径单晶硅放肩稳定性的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202211600313.12022-12-13CN116005250A2023-04-25崔维学、鲁强、李永博、李钊、盖晶虎
48一种重掺杂硅单晶放肩生长工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202211568782.X2022-12-05CN116145235A2023-05-23王万华、李英涛、王凯磊、皮小争、崔彬
49一种APCVD背封炉喷头的冷却装置及方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202211534901.X2022-12-02CN116219402A2023-06-06冯瑞琪、何宇、陈鲁锋、杨先瑞
50一种重掺红磷单晶炉管道清理的方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202211534968.32022-12-02CN116140302B2024-08-20皮小争、李英涛、王万华、王凯磊、崔彬、方峰

有研硅是国内领先的半导体硅材料核心供应商,拥有全产业链布局优势,专注于关键半导体材料研发生产。公司成立于2001年6月21日,2022年11月10日在上海证券交易所上市,注册地与办公地均位于北京市。

公司主营业务为半导体材料的研发、生产与销售,申万行业分类隶属于电子-半导体-半导体材料赛道,同时覆盖年度强势、存储概念、半导体材料三大概念板块。

2026年上半年,有研硅实现营业收入6.65亿元,在28家同行业可比公司中排名第13位,低于行业平均11.68亿元,略高于行业中位数6.26亿元,同期行业营收前两位分别为有研新材61.58亿元、雅克科技45.13亿元;营收结构中半导体硅抛光片贡献3.51亿元占比52.83%,刻蚀设备用硅材料贡献2.6亿元占比39.12%,其余业务合计占比不足10%。当期公司实现净利润1.54亿元,行业排名第5/28位,大幅高于行业平均5833.35万元与行业中位数5637.14万元,同期行业净利润前两位分别为雅克科技6.37亿元、江丰电子4.72亿元。

指标类别 具体指标 数值情况 行业对比
营收表现 2026年上半年营业收入 6.65亿元 排名1/28,低于均值11.68亿元、高于中位数6.26亿元
营收结构 半导体硅抛光片营收及占比 3.51亿元,52.83% -
营收结构 刻蚀设备用硅材料营收及占比 2.6亿元,39.12% -
营收结构 其他业务营收及占比 4125.14万元,6.21% -
营收结构 其他补充业务营收及占比 1228.74万元,1.85% -
利润表现 2026年上半年净利润 1.54亿元 排名5/28,高于均值5833.35万元、高于中位数5637.14万元

有研半导体硅材料股份公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1一种评价直拉单晶硅放肩棱线开棱程度的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202512019211.02025-12-30CN122015709A2026-05-12宁永铎、谷锡猛、颜俊尧
2一种用于大直径硅片的高纯碳化硅喷砂处理工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202512004102.12025-12-29CN121798517A2026-04-07李广振、郑宇、安瑞阳、马振
3一种用于硅晶圆双面研磨机自动上下料的装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511926268.22025-12-19CN121608062A2026-03-06刘鹏亮、郑宇、安瑞阳、李广振
4一种用于大直径直拉高阻单晶的电阻率控制方法发明专利公布CN202511906887.52025-12-17CN121653836A2026-03-13魏广禹、李超、李钊、鲁强、李永博、崔维学、张果虎
5一种70μm直径金刚线切割8英寸硅棒的加工工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202511873126.42025-12-12CN121733715A2026-03-27李攀、苏冰、周献朋、张果虎、王海涛、郑宇、王立军
6一种用于单晶棒投料的电阻率测试适配方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511863671.52025-12-11CN121917844A2026-04-24颜俊尧、李钧宏、徐继平
7一种减少硅片背面损伤的有蜡贴片工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202511836745.62025-12-08CN121925065A2026-04-24陈克强、赵江伟、董斐、韩佩鑫、田凤阁、崔学军、张果虎、靳慧杰
8一种改善区熔单晶硅电阻率不均匀性的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511698804.82025-11-19CN121610893A2026-03-06尚锐刚、刘建涛、燕丁、李明飞
9一种用于区熔硅单晶生长的气相掺杂方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511521455.22025-10-23CN121321206A2026-01-13燕丁、尚锐刚、刘建涛、李明飞
10一种高品质SOI用硅衬底抛光片的加工方法发明专利授权CN202510974564.32025-07-15CN120824193B2026-05-29王新、林霖、田凤阁、宁永铎、钟耕杭、张果虎、刘斌
11一种<111>晶向单晶硅等径阶段宽面稳定性的控制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510599637.52025-05-09CN120330873A2025-07-18张欢、张鑫龙、徐相峰、张果虎
12一种薄片晶圆自动化剥离装置实用新型授权CN202520599238.42025-04-01CN223993875U2026-03-13段文瑶、赵江伟、马晓晨
13一种硅电极MC自动加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510216538.42025-02-26CN120043482A2025-05-27胡金海、朱秦发、张泽龙、杨卫国、张果虎
14一种大直径圆环形硅片测试封装用片盒实用新型授权CN202520186117.72025-02-06CN223736591U2025-12-30王雅慧、魏士迪、皇志威
15一种硅单晶位错滑移线的检测方法发明专利授权CN202411891799.82024-12-20CN119780115B2025-12-12刘莉、张宏浩、江国兴、褚天宇、朱秦发、姜舰
16一种用于套圆加工的环抱型单晶硅棒吊装装置实用新型授权CN202423131559.62024-12-18CN223659613U2025-12-12皇志威、江国兴、褚天宇、蔡明
17一种多晶铸锭开方机硅料装卸装置实用新型授权CN202423116426.12024-12-17CN223617981U2025-12-02杨寿亮、赵延立、王开平
18一种用于硅渣浆过滤的三级洁净分离自平衡水箱结构发明专利实质审查的生效、公布CN202411800101.72024-12-09CN119607707A2025-03-14赵延立、朱秦发、胡金海、张传振
19一种多设备同时滤除硅渣的组合过滤系统及处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411800035.32024-12-09CN119633490A2025-03-18赵延立、朱秦发、张泽龙
20一种改善外延后边缘轮廓各向异形问题的衬底加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411790240.62024-12-06CN119710915A2025-03-28宁永铎、颜俊尧、纪新鹏、李钧宏
21一种用于MC第四旋转轴加工石英环的夹具装置实用新型授权CN202423010168.92024-12-06CN223656768U2025-12-12张泽龙、朱秦发、胡金海、杨卫国
22一种用于大直径直拉硅单晶的降温装置和方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411739449.X2024-11-29CN119615348A2025-03-14李超、魏广禹、李钊、鲁强、李永博
23一种用于硅单晶棒截断的浮动支撑装置实用新型授权CN202422935227.72024-11-29CN223657336U2025-12-12江国兴、赵振晖、刘莉
24一种用于单晶硅料粘接的单晶夹持起重装置实用新型授权CN202422903473.42024-11-27CN223659638U2025-12-12褚天宇、江国兴、皇志威、蔡明、王雅慧
25一种用于区熔炉内轴稳定运行的连接装置发明专利实质审查的生效、公布CN202411658418.12024-11-19CN119593054A2025-03-11付斌
26一种基于机器视觉的直拉单晶生长界面中轴轨迹监测系统与方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411657671.52024-11-19CN119593057A2025-03-11颜俊尧、宁永铎、谷锡猛
27一种抛光片背面边缘二氧化硅快速腐蚀的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411612013.42024-11-12CN120015620A2025-05-16杨先瑞、冯瑞琪、何宇、陈鲁锋、韩萍
28一种用于区熔法提纯多晶硅的收尾工艺方法发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411520928.22024-10-29CN119411225A2025-02-11李明飞、尚锐刚、王永涛、刘建涛、付斌、闫志瑞
29一种重掺红磷硅单晶的无位错收尾工艺发明专利实质审查的生效、公布CN202411519282.62024-10-29CN119465376A2025-02-18王凯磊、李英涛、张宇、王万华、皮小争、方峰、崔彬
30一种有效去除12英寸硅衬底体内铜沾污的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411452746.62024-10-17CN119381245A2025-01-28王海涛、钟耕杭、李俊峰、张清洋、李磊、王明霞
31一种用于处理硅衬底激光打标损伤的方法发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202410516328.22024-04-25CN118380308A2024-07-23韩萍、何宇、郑捷、刘斌、钟耕杭、靳慧洁、蔡丽艳、王瑞英
32一种电容法测试超低阻红磷硅片电阻率的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410494803.02024-04-23CN118425615A2024-08-02韩萍、孙韫哲、靳慧洁、蔡丽艳、刘斌、王瑞英
33一种用于硅片贴片机下压气囊的充气密封结构实用新型授权CN202420723812.82024-04-09CN222146150U2024-12-10刘义、韩萍、李千振、姜振虎、赵勇、张西标、蔡丽艳、赵江伟、陈克强
34一种半导体硅抛光片的去蜡清洗工艺发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202410032589.72024-01-08CN117862112B2025-06-20赵江伟、王新、韩佩鑫、田凤阁、陈克强、崔学军、黄书峰、王冠通
35一种用于硅单晶棒连续生产的直拉硅单晶炉副炉室及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311840508.82023-12-28CN117758352A2024-03-26宁永铎、李钧宏、颜俊尧、方峰
36一种区熔硅单晶自动生长的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311798703.92023-12-25CN117758351A2024-03-26王永涛、尚锐刚、刘建涛、李明飞、闫志瑞
37一种防止P型直拉硅单晶头部电阻率虚高与反型的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311733108.72023-12-14CN117758356A2024-03-26崔维学、鲁强、李钊、李永博、魏广禹
38一种区熔硅单晶全自动放肩方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311703905.02023-12-12CN117721523A2024-03-19尚锐刚、王永涛、刘建涛、李明飞
39一种用于半导体晶棒切割的辅助校准装置实用新型授权CN202323231767.92023-11-28CN221223607U2024-06-25江国兴、赵振晖、张宏浩、杨寿亮、刘莉、朱秦发、姜舰
40一种用于圆环形单晶硅棒加工的固定装置实用新型授权CN202323116133.92023-11-17CN221212338U2024-06-25皇志威、褚天宇、蔡明、江国兴
41一种用于消除半导体抛光片表面色斑的装置与方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202311498465.X2023-11-13CN117238752B2024-02-13颜俊尧、宁永铎、张健华、李钧宏、徐继平、边永智
42一种重掺硅单晶电阻率精准控制的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311485633.12023-11-08CN117568929A2024-02-20王凯磊、李英涛、王万华、皮小争、方峰、崔彬
43一种<111>晶向硅单晶小平面的检测方法发明专利实质审查的生效、公布CN202311312019.52023-10-11CN117517367A2024-02-06王学锋、张宏浩、朱晓彤、杨寿亮、刘莉、朱秦发
44一种大尺寸晶圆边缘的加工工艺发明专利发明专利申请公布后的驳回、实质审查的生效、公布CN202310967112.32023-08-02CN117116740A2023-11-24王新、郑宇、何丙才、刘鹏亮、张亮、李广振、安瑞阳、姜伟
45一种用于大型晶圆研磨机改善晶圆形貌的研磨工艺发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310967122.72023-08-02CN116852183B2024-04-02何丙才、郑宇、韩萍、李广振、刘鹏亮、张亮、姜伟、田凤阁、陈克强、韩佩鑫
46一种适用于研磨晶圆的研磨液供液系统实用新型授权CN202321940879.92023-07-21CN220179060U2023-12-15郑宇、何丙才、刘鹏亮、李广振、张亮、姜伟、杨先瑞、陈鲁峰
47一种应用于12英寸硅片洗盒机清洗6英寸花篮的专用装置实用新型授权CN202321932299.52023-07-21CN220479658U2024-02-13赵晶、李千振、蒙德强、刘义、孙超
48一种重掺砷低电阻率硅单晶微缺陷的检测方法发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202310616131.12023-05-29CN116642914B2024-02-13王学锋、张宏浩、朱晓彤、杨寿亮、赵振辉、朱秦发
49直拉法制备超高电阻率硅衬底的方法发明专利授权CN202211727056.82022-12-27CN116240621B2026-08-28张健华、张欢、连庆伟、宁永铎、方峰、徐继平、钟耕杭、朱晓彤、李钧宏、颜俊尧
50一种改善硅单晶直拉炉加热器寿命的方法发明专利实质审查的生效、公布CN202211601075.62022-12-14CN116103748A2023-05-12颜俊尧、李英涛、边永智、宁永铎、方峰、徐继平

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