华海清科申请抛光头相关专利，该技术可避免方形基板抛光时受损
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2026-08-22 09:26:17
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8月22日消息，国家知识产权局信息显示，华海清科股份有限公司申请一项名为“一种抛光头、抛光单元和抛光设备”的专利。申请公布号为CN122584172A，申请号为CN202611079931.4，申请公布日期为2026年8月18日，申请日期为2026年7月21日，发明人王同庆、程子政、孟松林、金军，分类号B24B37/11、B24B37/20、B24B37/10、B24B37/34、B24B37/30。

专利摘要显示，本发明提供一种抛光头、抛光单元和抛光设备，抛光头包括：基座组件、安装在基座组件下方的气膜组件和保持环组件，保持环组件环绕气膜组件设置；保持环组件包括保持环和设置在保持环的每个夹角处的夹持元件，所述夹持元件配置为在抛光时协同作用以夹紧方形基板的四个角。本发明能够有效避免方形基板在抛光过程中的损伤。

华海清科是国内CMP设备领域领军企业，核心从事化学机械抛光设备研发制造，具备全产业链自主可控技术壁垒。公司成立于2013年4月10日，于2022年6月8日登陆上海证券交易所，注册及办公所在地均为天津市。

华海清科主营业务为半导体专用设备的研发、生产、销售及技术服务，申万行业分类隶属于电子-半导体-半导体设备板块，同时覆盖HBM概念、半导体设备、中芯国际概念三大热门概念赛道。

2026年上半年，华海清科实现营业收入26.43亿元，在行业内5家可比样本中排名第4，同期行业头部企业中微公司、盛美上海营收分别达66.91亿元、37.18亿元，行业平均营收为32.3亿元，行业中位数为29.13亿元；同期公司实现净利润5.63亿元，同样在5家可比样本中位列第4，行业净利润榜首中微公司录得27.97亿元，第二名拓荆科技净利润为13.21亿元，行业平均净利润为11.44亿元，行业中位数为9.89亿元。

指标类型 2026年上半年当期数值 行业排名/样本总量 行业头部对标企业数值 行业平均数 行业中位数
营业收入 26.43亿元 4/5 中微公司66.91亿元、盛美上海37.18亿元 32.3亿元 29.13亿元
净利润 5.63亿元 4/5 中微公司27.97亿元、拓荆科技13.21亿元 11.44亿元 9.89亿元

华海清科股份有限公司近期专利情况如下：

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1一种抛光头、抛光单元和抛光设备发明专利公布CN202611079931.42026-07-21CN122584172A2026-08-18王同庆、程子政、孟松林、金军
2一种数据融合方法、电涡流测量系统、抛光单元和设备发明专利实质审查的生效、公布CN202611007390.42026-07-08CN122508513A2026-08-04吴英明、王科、田芳馨
3晶圆减薄方法、设备、存储介质及程序产品发明专利公布CN202611007389.12026-07-08CN122518151A2026-08-07尹国强、董跃巍、刘远航、李森、赵德文、王同庆、赵春生
4一种用于化学机械抛光的修整装置和修整方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610903952.72026-06-23CN122463047A2026-07-28鲁泽坤、陈映松、王春龙、崔云鑫、曹自立
5一种抛光垫更换系统和方法发明专利公布CN202610768024.42026-05-30CN122442511A2026-07-24王科、陈映松、王怀锋、李长坤、成鹏
6一种抛光垫装卸装置及装卸方法发明专利公布CN202610768019.32026-05-30CN122480836A2026-07-31王科、陈映松、王怀锋、李长坤、成鹏
7一种抛光垫装卸装置、设备和方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610768020.62026-05-30CN122500627A2026-08-04王科、陈映松、王怀锋、李长坤、成鹏
8一种晶圆抛光方法、抛光单元和抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610705158.12026-05-21CN122248984A2026-06-19田云、辜声攀、杜新祥、马海港
9一种用于化学机械抛光的承载头和化学机械抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610668707.22026-05-15CN122353463A2026-07-10程子政、孟松林、金军
10一种晶圆后处理装置和处理方法发明专利公布CN202610622639.62026-05-08CN122476855A2026-07-28路新春、马钰皓、王剑、李长坤、刘远航
11一种抛光带与晶圆缺口相对位置的检测装置和检测方法发明专利公布CN202610546525.82026-04-23CN122099962A2026-05-29周朝龙、辛宇航、郭垒、杨志冰
12晶圆翻转装置、晶圆翻转方法及晶圆处理设备发明专利授权CN202610432475.02026-04-03CN121969113A2026-05-01南奇童、张龙华、张鑫、申兵兵
13抛光液分布预测方法、化学机械抛光方法及设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610366890.02026-03-24CN122033825A2026-05-15张力飞、王同庆、赵南皓
14晶圆加工系统、终点检测装置、方法及电子设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610348698.92026-03-20CN122253080A2026-06-23王同庆、王科、窦华成、田芳馨
15晶圆清洗装置及晶圆清洗方法发明专利授权CN202610230602.92026-02-27CN121752004B2026-05-15王同庆、陈贺、刘颖、曹自立、李长坤
16晶圆清洗用匀流结构、晶圆清洗装置及清洗方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610663715.82026-02-27CN122514214A2026-08-04王同庆、陈贺、刘颖、曹自立、李长坤
17化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610211064.92026-02-13CN122077513A2026-05-26路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆
18晶圆化学机械抛光设备及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610203298.92026-02-12CN121870631A2026-04-17路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆、赵德文
19化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610204916.12026-02-12CN121946355A2026-05-01路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆
20化学机械抛光设备、晶圆加工方法和化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610198479.72026-02-11CN121893158A2026-04-21路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆
21晶圆处理装置、控制方法及化学机械抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202610198513.02026-02-11CN122077512A2026-05-26路新春、李长坤、王科、李俊卿、王同庆
22一种化学机械抛光设备和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610188222.32026-02-10CN121893155A2026-04-21刘晟桤、李俊卿、李长坤、王科
23晶圆化学机械抛光设备及基于晶圆状态的动态密封方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610188204.52026-02-10CN122058269A2026-05-19张海鹏、曹冠宁、范少文、王科、孙传恽、李长坤
24一种化学机械抛光设备和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610182595.X2026-02-09CN121893154A2026-04-21霍恩彬、李长坤、李俊卿、申兵兵、王剑
25一种具有小体积气液分离箱的晶圆处理设备及晶圆处理方法发明专利实质审查的生效、公布CN202610049289.92026-01-15CN121513539A2026-02-13陈贺、姚福聪、曹自立、李长坤
26抛光方法、电子设备及存储介质发明专利实质审查的生效、公布CN202610009656.22026-01-06CN121608055A2026-03-06王同庆、吴兴、李长坤、李俊卿、王科
27抛光装置和晶圆加工设备发明专利实质审查的生效、公布CN202610009659.62026-01-06CN121848277A2026-04-14路新春、吴兴、王同庆、李俊卿、李长坤
28晶圆修边装置、晶圆加工设备及加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511925734.52025-12-19CN121729009A2026-03-24路新春、王同庆、赵德文、刘远航、请求不公布姓名、鲍伟成
29晶圆边缘动态修整方法和晶圆修边装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511925732.62025-12-19CN121848541A2026-04-14赵德文、高亚磊、李森、刘远航、欧阳亮
30晶圆修边装置、晶圆加工设备及加工方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511923156.12025-12-19CN121925066A2026-04-24刘远航、请求不公布姓名、鲍伟成、赵德文、路新春
31晶圆边缘修整方法、边缘修整装置和加工设备发明专利公布CN202511830466.92025-12-06CN121649858A2026-03-13欧阳亮、高亚磊、王玉、檀广节
32一种用于化学机械抛光的承载头和抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511830467.32025-12-06CN121715974A2026-03-24王宇、刘宏伟、孟松林、金军、张洪蛟
33一种晶圆处理设备、空气洁净度控制方法和空气清洁系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511830465.42025-12-06CN121756222A2026-03-31王同庆、孙传恽、张丛
34一种用于电化学机械抛光的承载头和抛光装置发明专利公布CN202511789495.52025-12-01CN121821233A2026-04-10刘二朋、王浩、王国栋、许振杰
35一种修整盘装卸装置、智能维护系统和方法发明专利发明专利申请公布后的视为撤回、公布CN202511718719.32025-11-21CN121670521A2026-03-17王科、李丹、陈映松、王怀锋、成鹏
36一种晶圆抛光方法、抛光单元和处理设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511696760.52025-11-19CN121447528A2026-02-03路新春、江鹏、周斌、谭锐
37一种化学机械抛光装置、抛光设备和抛光方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511680481.X2025-11-17CN121608057A2026-03-06曹自立、李长坤
38一种晶圆后处理装置、抛光设备和抛光方法发明专利公布CN202511680510.22025-11-17CN121693049A2026-03-17曹自立、李长坤
39晶圆划切设备、晶圆加工方法及控制装置发明专利实质审查的生效、公布CN202511649635.92025-11-12CN121340478A2026-01-16刘远航、鲍伟成、朱林、赵德文、路新春
40一种弹性膜、承载头、化学机械抛光设备和方法发明专利实质审查的生效、公布CN202511629574.X2025-11-08CN121179339A2025-12-23王宇、张浩、左少杰、金军、张洪蛟
41一种晶圆膜厚测量方法、装置和化学机械抛光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202511553470.52025-10-29CN121104883A2025-12-12窦华成、田芳馨、王科
42抛光装置和晶圆加工设备发明专利发明专利申请公布后的撤回、实质审查的生效、公布CN202511556082.22025-10-29CN121132497A2025-12-16路新春、吴兴、王同庆、李俊卿、李长坤
43抛光方法、电子设备及存储介质发明专利发明专利申请公布后的撤回、实质审查的生效、公布CN202511556080.32025-10-29CN121132496A2025-12-16王同庆、吴兴、李长坤、李俊卿、王科
44一种方形承载头和化学机械抛光系统发明专利授权CN202511524648.32025-10-24CN121004541B2026-02-06程子政、孟松林、金军
45一种晶圆清洗装置、清洗方法和处理设备发明专利公布CN202511361499.32025-09-23CN121018398A2025-11-28张丰达、王剑、李长坤
46一种用于化学机械抛光的承载头及抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511270350.42025-09-08CN120862556A2025-10-31刘鑫博、李润豪、金军、张洪蛟
47一种用于化学机械抛光的承载头及抛光系统发明专利实质审查的生效、公布CN202511270348.72025-09-08CN120862555A2025-10-31刘鑫博、李润豪、金军、张洪蛟
48一种用于化学机械抛光的弹性膜和承载头发明专利公布CN202511270349.12025-09-08CN120985523A2025-11-21刘鑫博、李润豪、金军、张洪蛟
49一种用于化学机械抛光的承载头及抛光系统实用新型授权CN202521918936.22025-09-08CN224575386U2026-07-31刘鑫博、李润豪、金军、张洪蛟
50晶圆修边装置及晶圆加工设备实用新型授权CN202521842963.62025-08-28CN224575925U2026-07-31刘远航、请求不公布姓名、鲍伟成、赵德文、路新春

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