2026 年 4 月 1 日，尼康集团会长兼 CEO 马立稔和（Toshikazu Umatate）卸任。接替他出任社长兼 CEO 的是此前负责医疗健康和光学技术的大村泰弘，现任社长兼 COO 德成旨亮则转任会长。尼康在 2 月 12 日的董事会上通过了这一人事方案，称之为“配合新中期经营计划的领导层调整”。

但在外界看来，这绝非一次从容的交接。截至 2026 年 3 月结束的财年，尼康预计录得约 1,000 亿日元的营业亏损和约 850 亿日元的净亏损。这是这家创立于 1917 年的光学企业有史以来最糟糕的财务表现。第三季度单季净亏损就达到 925 亿日元，一年前同期还有 33 亿日元的盈利。

图丨马立稔和（来源：Nikon）

巨亏的直接原因是一笔高达 906 亿日元的减值损失，来自尼康 2022 年收购的德国金属 3D 打印公司 SLM Solutions。尼康承认，SLM 未来的销售增长将远低于收购时的预期。但减值之外，公司的核心精机事业（半导体和 FPD 光刻设备）同样在经历库存减记和订单萎缩。即便剔除一次性因素，尼康本财年仍预计出现约 100 亿日元的营业亏损。

2025 年度上半年，尼康的半导体光刻机仅售出 9 台，全部是成熟制程的 DUV（深紫外）设备。同一时期，ASML 出货约 160 台，其中包括约 20 台 EUV（极紫外）光刻机。两家公司曾经是势均力敌的对手，如今这个出货比已经没有什么可比性了。

马立稔和在尼康的职业生涯跨越了将近四十年，几乎全部围绕半导体光刻机展开。早在 2006 年，他就以精机事业部执行役员的身份代表尼康出席与新思科技（Synopsys）的联合技术发布会，讨论 45nm 工艺节点的光刻仿真优化。

2014 年至 2019 年间，他担任半导体光刻事业部的高级副总裁兼总经理，直接管理这项业务的研发和销售。2015 年尼康获得英特尔“最佳品质供应商”奖时，站出来代表公司致辞的也是他。此后他先升任 CTO，2019 年出任社长兼 CEO，2024 年 4 月又兼任会长。

尼康内部没有谁比马立稔和更深地扎根于光刻机业务。这既意味着他对技术细节有着极深的理解，也意味着尼康光刻机在过去二十年间的战略走向，他始终是核心参与者。

故事要从尼康光刻机最风光的年代说起。1980 年代到 1990 年代末，尼康是这个领域无可争议的霸主。市场份额最高时超过 50%，英特尔、IBM、AMD、德州仪器都是它的客户。尼康 1980 年推出第一台商用半导体光刻机后，凭借在光学镜头和精密机械上的积累，在此后二十年里稳坐行业第一。1982 年成立的 Nikon Precision 把服务前线直接设在硅谷，美国芯片厂商排着队等设备交付。

1984 年，ASML 在荷兰由飞利浦实验室与 ASM International 合资成立，31 个人挤在飞利浦总部旁边的临时板房里办公。之后整整十六年，ASML 的份额长期不超过 10%，在尼康面前几乎没有存在感。

转折从 2002 年开始。当时光刻机行业遇到了一个集体性的技术瓶颈：193nm 波长的 ArF 光源潜力已经逼近极限，而业界寄予厚望的下一代 157nm 光源，研发进展缓慢，配套的 CaF₂ 透镜材料成本极高。所有主要厂商，包括尼康、佳能、IBM 等都在 157nm 干式路线上投入了大量资源。

2002 年夏天，时任台积电研发高管的林本坚（Burn J. Lin）在 SEMATECH 主办的 157nm 微影研讨会上做了一次偏离预定主题的演讲。他原本被安排讨论如何用浸没技术延长 157nm 光刻的寿命，但他在演讲中直接指出 157nm 路线的技术挑战过于严峻，转而提议将浸没技术应用于已经成熟的 193nm 平台。用水（折射率约 1.44）替代空气填充镜头与晶圆之间的空隙，可以将 193nm 光源的等效波长压缩到约 134nm，不需要开发新光源就能大幅提升分辨率。

图丨林本坚（来源：Graduate Institute of Photonics and Optoelectronics

这个方案遇到了广泛的怀疑。当时行业的主流共识仍然锚定在 157nm 干式路线上，各大厂商已经投入了数亿美元的研发费用。浸没式意味着推翻既有路线，接受沉没成本。尼康也不例外，它在 157nm 路线上的投入尤为深重。

ASML 是当时少数愿意认真对待浸没式的公司之一。作为市场追赶者，ASML 在既有路线上和尼康正面竞争并不占优势，一条新技术路线反而可能改变格局。2003 年，ASML 向客户交付了第一台浸没式光刻机原型 TWINSCAN XT:1150i。同年 12 月，台积电成为全球第一家正式下单 ASML 浸没式光刻机的芯片制造商。

尼康的反应明显慢了一拍。它的第一台浸没式原型机直到 2004 年 10 月才完成，比 ASML 晚了将近两年。佳能更干脆，始终没有交付过浸没式产品。

两年的时间差在半导体行业足以改变竞争格局。ASML 的浸没式光刻机是在成熟的 193nm 平台上改进而来，客户切换成本低、系统稳定性好。尼康同期力推的 157nm 干式光刻机则是全新架构的产品，市场接受度远不及预期。到 2009 年，ASML 的全球市场份额飙升至约 70%，尼康从行业龙头变成了跟随者。

浸没式之战的失利已经很痛，但真正让尼康丧失翻盘可能的，是接下来在 EUV（极紫外光刻）领域的出局。

浸没式光刻的潜力终归有限。要制造 7nm 及以下的先进制程芯片，行业需要波长更短的光源。EUV 使用 13.5nm 波长的极紫外光，分辨率远超 193nm 浸没式，被视为延续摩尔定律的关键技术。

尼康和日本政府都把 EUV 看作必须拿下的制高点。马立稔和此时已经成长为尼康光刻技术团队的核心管理者，参与主导了尼康的 EUV 预研。日本政府以经济产业省为主导，投入数百亿日元资金，联合尼康、佳能、东京电子、信越化学和多所大学，组建了庞大的产官学攻关体系。这条路线的基本思路是集中国内力量、垂直整合、自主研发。

但这个体系从一开始就面临一个结构性问题：尼康被排除在了美国主导的 EUV 核心技术圈之外。

1997 年，英特尔联合 AMD、摩托罗拉等美国芯片厂商，与美国能源部下属的桑迪亚、劳伦斯利弗莫尔和劳伦斯伯克利三大国家实验室合作，成立了 EUV LLC 联盟，投入约 2.5 亿美元进行 EUV 基础技术研究。

英特尔作为联盟中最大的出资方，本来希望把尼康也拉进来。但美国国会和能源部对将纳税人资助的研究成果转让给日本企业高度警惕，1980 年代日本半导体产业对美国造成的冲击仍然是鲜明的记忆。最终，ASML 被允许加入联盟并获得 EUV 技术的许可授权，条件是承诺在美国投资和采购；尼康和佳能则被拒之门外。

ASML 拿到入场券后步步推进：2001 年收购美国光刻设备商 SVG，获得更多 EUV 知识产权；与德国蔡司合作开发 EUV 光学系统；2012 年收购美国光源公司 Cymer。同年，英特尔、三星、台积电三大客户向 ASML 直接注资超过 60 亿欧元，帮助其加速 EUV 商用化，这种由客户出钱扶持供应商的模式，在半导体设备行业也是史无前例。

尼康走的是另一条路。靠日本国内的力量自主研发，既没有全球化供应链的配合，也没有顶级客户的真金白银。2007 年前后，尼康确实造出了 EUV 光刻机的原型机，但始终未能达到可商用的技术标准。

据 CSET（乔治城大学安全与新兴技术中心）2024 年发布的研究报告，到 2011 年前后，EUV 开发成本已经飙升到尼康难以独立承受的程度，公司选择退出 EUV 的商用化开发。ASML 也曾在这条路上烧钱到几乎断粮，但它有三大客户兜底，有美国国家实验室的技术积累，有蔡司和 Cymer 的配套，而尼康没有这些。

至此，尼康在先进制程光刻设备市场上的竞争资格实质性终结。ASML 成为全球唯一的 EUV 光刻机供应商。台积电、三星、英特尔要推进 7nm、5nm、3nm 制程，只能找 ASML 买设备。这个市场里不再有尼康的位置。

马立稔和在升任 CEO 之后，试图为尼康寻找光刻机之外的增长空间。在最知名的影像业务上，其任期内尼康的 Z 卡口无反相机产品线持续扩展，Z8、Zf、Z6III 等机型在全球市场都取得了不错的成绩，2025 财年影像产品营收达到 2,953 亿日元，同比增长 5.6%，已经超过精机事业成为集团最大的收入来源。

2024 年，尼康又斥资约 85 百万美元收购了美国电影摄影机品牌 RED Digital Cinema，将 RED 的色彩科学和编码技术引入 Z 卡口生态，随后推出了融合两家技术的 ZR 数字电影摄影机，试图打入此前被索尼、佳能和 ARRI 主导的专业影视制作市场。

但在战略布局上，马立稔和押得更重的赌注是 3D 打印。2022 年，尼康斥资约 622 亿日元收购德国金属 3D 打印企业 SLM Solutions，押注数字制造领域。这笔收购被定位为公司战略转型的支点，目标是在航空航天和国防领域的增材制造市场中建立新的收入来源。

但金属 3D 打印市场的增速远不及预期，SLM 的营收持续低迷。到 2026 财年第三季度，尼康不得不为这笔收购计提 906 亿日元的商誉和无形资产减值，这一个数字就几乎吞掉了公司全年的利润。

在光刻机业务上，尼康目前的策略是固守成熟制程市场，同时尝试局部反攻。公司正在开发一款新的 ArF 浸没式光刻系统，计划 2028 财年推出，设计上刻意兼容 ASML 的 TWINSCAN 生态，降低客户切换门槛。目标很明确：在 ASML 占据超过 90% 份额的 ArF 浸没式市场中抢回一些空间。此外，尼康也在开发面向先进封装的无掩膜数字光刻设备，试图在 Chiplet 和玻璃基板封装等新兴领域找到切入点。

但尼康面临的结构性困境，远不是一两款新产品能解决的。SemiVision Research 在 2026 年 3 月的一篇分析中指出了尼康的核心矛盾：它既不是先进制程领域不可或缺的供应商，也不是成熟制程市场中成本最低的玩家。在先进制程那端，ASML 的垄断地位不可动摇，只要台积电、三星和英特尔还在推进更小的节点，ASML 就是必选供应商。

在成熟制程这端，中国正在大规模扩充 28nm 及以上工艺的产能，国产设备替代的浪潮正在逐步蚕食尼康赖以生存的客户基础。出口管制又让尼康无法安心把中国当作增长支柱，既面临合规风险，又面临未来被中国国产设备取代的长期威胁。

马立稔和留给继任者的，是一个远比他接手时更困难的局面。他的前任牛田一雄（Kazuo Ushida）2019 年交棒时，尼康虽然已经在先进光刻领域落后 ASML，但至少核心业务还在盈利，英特尔这个大客户的订单也相对稳定。而现在，英特尔自身深陷制程转换的泥潭，对尼康光刻机的采购量已经大幅下滑。据报道，尼康光刻机营收中有七到八成曾依赖英特尔一家客户。英特尔订单的萎缩，对尼康精机事业的打击不亚于任何技术路线的失败。

回头看马立稔和的整个职业生涯，他身上浓缩了尼康光刻机业务的全部矛盾。他入职时，尼康正处在巅峰；他掌管光刻事业部时，尼康已经在浸没式和 EUV 两场关键战役中落败；他成为 CEO 后，试图用 SLM 收购打开新局面，结果又遭遇了一次昂贵的失败。这不全是一个人的责任，尼康在浸没式上的迟钝是整个日本光刻产业的集体选择，在 EUV 上的出局更有深刻的地缘政治因素，但马立稔和作为这家公司光刻基因最深的管理者，确实是这段下坠历史中最无法回避的名字。

新任 CEO 大村泰弘的背景是光学工程，在尼康的光学工程部门和医疗健康事业部都有过管理经验，后来又担任过 CTO，负责生产技术。他不是从光刻机业务线上成长起来的人，这或许是尼康有意为之的选择。尼康的下一个五年中期计划（2026 年 4 月至 2031 年 3 月）需要回答的核心问题只有一个：在 ASML 和中国之间，尼康到底还能找到什么样的生存空间？

图丨大村泰弘（来源：Nikon）

1980 年代入职尼康的那批工程师，大概从没想过有一天要回答这种问题。

参考资料：

1.https://tspasemiconductor.substack.com/p/caught-between-asml-and-china-nikon

2.https://www.asianometry.com/p/a-deep-dive-into-immersion-lithography

3.https://www.nikon.com/company/news/2026/20260304_01_e.pdf

4.https://www.nikon.com/company/ir/ir_library/result/pdf/2025/25_1_e.pdf

5.https://www.construction-physics.com/p/how-asml-got-euv

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