观点网讯:近日,晶升股份自主研发的大尺寸CVD SiC化学气相沉积涂层成套设备完成整机出厂检验,正式装车发运交付客户。该设备是国内自主研发的大尺寸碳化硅涂层工艺装备,标志着晶升股份在大尺寸SiC涂层装备领域取得关键技术进展。
SiC是第三代半导体核心材料,CVD涂层工艺是制备高性能SiC器件的核心环节。此前,国内大尺寸CVD SiC涂层设备主要依赖进口,本次交付的设备将应用于碳化硅器件的批量生产环节,为半导体热场关键部件的国产化制造提供有力支撑。
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