4月18日消息，国家知识产权局信息显示，中国地质大学（武汉）、四方光电股份有限公司申请一项名为“一种采用蒙脱石制备硅基/铝基固态胺吸附剂及其制备方法和应用”的专利。申请公布号为CN121847068A，申请号为CN202512004043.8，申请公布日期为2026年4月14日，申请日期为2025年12月29日，发明人杨志红、陈雨珊、熊友辉、钟灵珊、杨宇，专利代理机构武汉知产时代知识产权代理有限公司，专利代理师王佩，分类号B01J20/10、B01J20/08、B01J20/22、B01J20/30、B01D53/02。

专利摘要显示，本发明涉及二氧化碳吸附剂技术领域，尤其涉及一种采用蒙脱石制备硅基/铝基固态胺吸附剂及其制备方法和应用。本发明将经过酸活化处理的蒙脱石，提取出了以二氧化硅为主要成分的硅基纳米材料。此外，通过对强酸性滤液的分步中和处理，成功提取滤液中的金属离子，并转变为以氧化铝为主成分的铝基纳米材料。将具有高比表面积、高表面活性的硅基和铝基复合纳米材料作为载体，并结合氨基功能化处理，制备出固态胺吸附剂。本发明不仅实现了蒙脱石的高附加值整体利用，使其从低吸附性矿物，转变为高容量、高选择性的新型捕集材料，还将原本具有强腐蚀性的酸性滤液转化为环境友好的氯化钠中性溶液，践行了绿色化学与循环经济理念。

四方光电成立于2003年5月22日，于2021年2月9日在上海证券交易所上市，注册及办公地址均为湖北省武汉市。它是国内领先的气体传感器及分析仪器制造商，具备全产业链优势，产品广泛应用于多领域。

四方光电主营业务为气体传感器、气体分析仪器的研发、生产和销售，所属申万行业为机械设备 - 通用设备 - 仪器仪表，属于沪股通、融资融券、转融券标的概念板块。

2025年，四方光电营业收入10.26亿元，行业排名7/18，低于第一名川仪股份的68.05亿元和第二名汉威科技的24.14亿元，略低于行业平均数11.63亿元，高于行业中位数6.63亿元。主营业务中，其他占比55.76%，达5.72亿元；汽车电子占比22.60%，为2.32亿元；暖通空调占比20.67%，是2.12亿元；其他(补充)占比0.98%，为1000.84万元。净利润方面，2025年为1.32亿元，行业排名6/18，低于第一名川仪股份的6.52亿元和第二名新天科技的2.51亿元，高于行业平均数1.17亿元和行业中位数8456.55万元。

四方光电股份有限公司近期专利情况如下：

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