芯碁微装申请动态追焦测量相关专利,提前测距调节物镜焦距,提升系统稳定性
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2026-03-29 10:02:14
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3月29日消息,国家知识产权局信息显示,合肥芯碁微电子装备股份有限公司申请一项名为“基于提前测距的动态追焦光学测量系统、方法及设备”的专利。申请公布号为CN121741698A,申请号为CN202512001839.8,申请公布日期为2026年3月27日,申请日期为2025年12月29日,发明人谢鹍、张润晨、石庆林,专利代理机构北京景闻知识产权代理有限公司,专利代理师王雪兰,分类号G01S7/481、G01S17/08。

专利摘要显示,本发明公开了一种基于提前测距的动态追焦光学测量系统、方法及设备,该系统包括:光源,用于提供光信号;反射镜,用于将光信号反射至待曝光物体的表面,并形成聚焦点;物镜,用于对待曝光物体的表面进行扫描,以对聚焦点进行曝光;物镜对焦调节模块,用于对物镜的焦距进行调节;探测器组件,用于接收光信号经待曝光物体的表面反射后的反射光信号,基于反射光信号得到聚焦点与物镜之间的距离,将距离传输至物镜对焦调节模块;物镜对焦调节模块还用于基于距离对物镜的焦距进行调节,以使物镜的焦距在其达到对聚焦点进行曝光的目标位置前与距离相等。本发明避免了因延迟导致的曝光或视觉检测不同步现象,提升了系统的稳定性和可靠性。

芯碁微装成立于2015年6月30日,于2021年4月1日在上海证券交易所上市,注册地址和办公地址均涉及安徽省合肥市。该公司是国内微纳直写光刻设备领域的领先企业,核心业务为光刻设备及服务,具备技术与全产业链优势。

芯碁微装所属申万行业为机械设备-专用设备-其他专用设备,涉及PCB概念、年度强势、光刻机等概念板块。公司主要从事以微纳直写光刻为技术核心的直接成像设备及直写光刻设备的研发、制造、销售及维保服务,产品功能覆盖多领域光刻环节。

2025年,芯碁微装营业收入达14.08亿元,在行业6家公司中排名第3,行业第一名科达制造为173.89亿元,第二名冀东装备为27.79亿元,行业平均数为39.3亿元,中位数为12.27亿元。主营业务中,PCB系列营收10.8亿元,占比76.69%;泛半导体系列2.33亿元,占比16.58%;租赁及其他8739.3万元,占比6.21%;其他(补充)738.1万元,占比0.52%。净利润方面,2025年为2.9亿元,行业排名第2,行业第一名科达制造为21.67亿元,行业平均数为4.38亿元,中位数为6265.8万元。

合肥芯碁微电子装备股份有限公司近期专利情况如下:

序号专利名称专利类型法律状态申请号申请日期公开(公告)号公开(公告)日期发明人
1基于提前测距的动态追焦光学测量系统、方法及设备发明专利公布CN202512001839.82025-12-29CN121741698A2026-03-27谢鹍、张润晨、石庆林
2一种可折展的压紧机构及LDI设备实用新型授权CN202520797048.32025-04-24CN224005412U2026-03-17汪志全、梁旭
3光学测距装置和激光直写曝光机发明专利实质审查的生效、公布CN202510416740.12025-04-03CN120293010A2025-07-11徐剑锋、穆璐、姜蔚然
4激光加工装置和激光加工系统发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202510309673.32025-03-17CN120095316A2025-06-06刘孟辉、赵尚州
5用于无掩模板直写光刻曝光机的吸盘电势监控系统及直写光刻曝光机实用新型授权CN202520419485.12025-03-11CN224020147U2026-03-20葛星雨、朱会敏、曹桂林、卢小齐、孙文彪
6吸附组件及具有其的曝光装置发明专利实质审查的生效、公布CN202510276930.82025-03-10CN119987158A2025-05-13叶飞、程刚、项宗齐、汪涛
7吸附组件及具有其的曝光装置实用新型授权CN202520372061.42025-03-05CN223692643U2025-12-19于成信
8LDI曝光机的对位方法和LDI曝光机发明专利实质审查的生效、公布CN202510224817.52025-02-27CN119805888A2025-04-11赵祥宝、郑超、朱远哲、高晓锋
9LDI曝光机的对位方法和LDI曝光机发明专利授权CN202510225750.72025-02-27CN119805889B2025-11-28赵祥宝、蔡志鸿
10应用于直写光刻机的纠偏对位方法及装置、介质和光刻机发明专利实质审查的生效、公布CN202510148769.62025-02-11CN119805879A2025-04-11王克、程建高
11一种抖动分板装置实用新型授权CN202520211748.X2025-02-11CN223792483U2026-01-13陆原、束义、刘汉云
12一种双台面曝光机实用新型授权CN202520171673.72025-01-25CN223796823U2026-01-13于成信
13一种曝光面剂量修正系统实用新型授权CN202520171669.02025-01-25CN223796822U2026-01-13李志豪、董邦林、穆璐、宋照爱
14一种插框自动收放板装置发明专利授权CN202510120189.62025-01-25CN119822052B2026-03-13焦官华、陆原、束义、刘汉云
15一种插板夹持装置发明专利授权CN202510120188.12025-01-25CN119822051B2026-03-17陆原、焦官华、束义、刘汉云
16运动曝光工作台、曝光系统和曝光的控制方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510110128.12025-01-23CN119644681A2025-03-18李辉
17运动曝光工作台及具有其的曝光系统实用新型授权CN202520160598.42025-01-23CN223911162U2026-02-13李辉
18提升UV激光钻孔加工工艺的激光钻孔设备发明专利实质审查的生效、公布CN202510057567.02025-01-14CN119794623A2025-04-11刘孟辉、赵尚州
19基于偏转镜实现光束分束及调控的激光并行加工设备实用新型授权CN202520083435.02025-01-14CN223932816U2026-02-24刘孟辉
20激光钻孔独立动态调控的多AOM级联设备实用新型授权CN202520083520.72025-01-14CN223932871U2026-02-24刘孟辉
21激光二极管的散热装置、高功率半导体激光器及组装方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510016572.72025-01-06CN119994629A2025-05-13刘亮、杨凯
22一种半导体空间光激光器镜片的调试工装及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202510016571.22025-01-06CN120002560A2025-05-16刘亮、杨凯
23激光器外壳及半导体空间光激光器实用新型授权CN202520025368.72025-01-06CN223797724U2026-01-13刘亮、金伟龙、杨凯
24曝光装置实用新型授权CN202423309294.42024-12-31CN223566032U2025-11-18叶飞
25应用于光头底板的散热机构及其曝光机实用新型授权CN202423314307.72024-12-31CN223712003U2025-12-23张文龙、梁旭
26直写式光刻机曝光控制方法及装置、介质和直写式光刻机发明专利实质审查的生效、公布CN202411904595.32024-12-23CN119556532A2025-03-04王超、梅文辉、赵美云、邵德洋
27自动上下料装置实用新型授权CN202423178878.22024-12-23CN223572237U2025-11-21张亮、赵尚州、李辉、岳览
28吸附总成及具有其的光刻装置发明专利实质审查的生效、实质审查的生效、公布CN202411726109.32024-11-28CN119511647A2025-02-25侯庆伟、汪涛
29提高无掩膜光刻机曝光功率密度的装置、方法及光刻机发明专利授权、实质审查的生效、公布CN202411720670.02024-11-28CN119292005B2025-10-10卞洪飞、张辉、叶加良、陈东
30基于空间光调制的双波段激光图形化微纳制造装置及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202411700772.62024-11-26CN119387805A2025-02-07张辉、卞洪飞、叶加良、陈东
31夹取装置实用新型授权CN202422891408.42024-11-26CN223385416U2025-09-26李冬青、李香滨、焦官华、徐欣
32一种真空吸附固定式晶圆载台实用新型授权CN202422718008.32024-11-06CN223598699U2025-11-25于成信
33夹紧总成及具有其的光刻装置实用新型授权CN202422674996.62024-11-04CN223666547U2025-12-12王历先、梁旭、张文龙
34一种能够快速更换过滤器的风机过滤装置实用新型授权CN202422675578.92024-11-01CN223425389U2025-10-10程强
35曝光总成及具有其的光刻设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411543995.62024-10-31CN119126500A2024-12-13张浩为、刘孟辉、武林
36一种用于LDI设备的气动遮光装置实用新型授权CN202422670377.X2024-10-31CN223401139U2025-09-30张文龙
37一种用于DMD芯片散热的水冷系统实用新型授权CN202422670371.22024-10-31CN223598092U2025-11-25张文龙、梁旭、王历先
38单台面LDI曝光机外观专利授权CN202430676628.82024-10-25CN309380230S2025-07-11王历先、项宗齐、梁旭
39FPD边缘曝光打码设备外观专利授权CN202430676627.32024-10-25CN309385911S2025-07-15程强
40高效单机双面曝光设备发明专利实质审查的生效、公布CN202411492573.02024-10-24CN119200348A2024-12-27曲鲁杰、程刚
41高效单机双面曝光设备实用新型授权CN202422576617.X2024-10-24CN223217782U2025-08-12曲鲁杰、程刚
42聚焦总成及具有其的光刻装置发明专利实质审查的生效、公布CN202411486173.92024-10-23CN119126499A2024-12-13徐剑锋、戴晓霖、黄思航
43标定总成及具有其的曝光装置实用新型授权CN202421971890.62024-08-13CN223260027U2025-08-22叶飞
44激光加工设备外观专利授权CN202430502595.52024-08-08CN309288976S2025-05-13张亮
45光刻靶标图像去模糊的方法及装置、去模糊模型和光刻机发明专利公布CN202411056926.22024-08-02CN118840287A2024-10-25冯浩川、郑超、王辰扬
46直写光刻设备和曝光控制方法发明专利授权、公布CN202411056139.82024-08-02CN118884780B2025-09-16张敏、戴晓霖、武邵东
47一种具有视觉相机装置的激光加工设备实用新型授权CN202421856554.72024-08-01CN223418627U2025-10-10张亮、董帅
48光学扩展模组和具有其的光学系统发明专利授权、公布CN202410988612.X2024-07-23CN118688972B2025-09-26曲鲁杰、蔡银银、程刚、赵美云
49光学扩展模组和具有其的光学系统发明专利授权、公布CN202410988613.42024-07-23CN118707743B2025-11-07赵美云、曲鲁杰、蔡银银、程刚
50一种用于直写式光刻机的安全防护系统及方法发明专利实质审查的生效、公布CN202410699512.52024-05-31CN118466111A2024-08-09童宇、朱会敏、周虎

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